用途:磁控溅射PVD镀膜,氮化钛(TiN)、氮碳化钛(TiCN)、氮化锆(ZrN)、氮化铬(CrN)、氮化铝钛(TiAIN)、碳化钛(TiC)等 |
基材:不锈钢,锌合金,塑料 |
应用:外壳,MP3外壳,数码相机外壳,各种标Pai的装饰改性加硬镀膜 |
颜色:白色,金色, 银色, 黑色 , 兰色等 |
基本参数: | |
1、真空室尺寸:1210mm(直径)×1200mm(高); |
2、抽气时间速:大气到5×10-3Pa≤20min (空载, 冷态,洁净); |
3、Z高烘烤温度:300℃ |
4、极限真空:优于1×10-3Pa; |
5、采用侧面对开门方式,便于工件装卸; |
6、3只观察窗口,左右门上各一个,室体正前方一个; |
7、2台φ400mm口径分子泵、1台ZJP300型罗茨泵, 2台2X-70型机械泵抽气; |
8、一套公、自转工转机构,采用下驱动方式的二维平面行星机构;自转轴20根; |
9、所有驱动引入采用带水冷套磁流体密封; |
10、四对磁控溅射靶平行安装且成圆周分布,靶材尺寸:910mm×120mm(长×宽); |
11、4路进口质量流量计进气; |
12、预溅射小车挡板,控制预溅射工艺; |
13、三台30KW中频电源及一台30KW脉冲偏压电源; |
14、控制系统采用触摸屏上位机(工控机)+下位机(PLC)的控制形式 |
15、控制系统有手动和自动,全系统具有互保护, 泵阀互锁。 |