多靶磁控溅射镀膜机◆ 镀膜方式:可实现多靶共溅模式;◆ 磁控靶:圆柱/平面靶;◆ 进气系统:三路质量流量计;◆ 镀膜室体积:500mmX500mmX600mm;◆ 极限真空度:6.7X10-5 Pa,恢复真空:从大气抽至6.7X10-4 Pa (40分钟);◆ 真空抽气系统:机械泵与分子泵组成;◆ 真空测量系统:数显复合真空计;◆ 工作电源:直流电源500W;射频电源500W(13.56MHz);加热控温电源;◆ 工件烘烤温度:室温~800℃可控可调(PID控温);◆ 选配件:石英晶振测厚仪、冷却水机组等;◆ 供电电源:三相AC380V,50Hz。
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