深圳诚峰智造(CRF)有限公司 (CRF)科技按照国家标准设计建造综合型生产基地。厂址位于深圳沙井孖宝工业区。公司拥有一批专业等离子研发人员,并特设等离子实验室,配合客户完善每次试验。长期以来,公司与中科院;ZG等离子技术研究所及国内ZD院校进行合作,坚持自主创新与国外新技术相结合,全力打造CRF PLASMA 为等离子技术品Pai。多年来,我们团队坚持以品质为立足之本,诚信为经营之道,以创新为发展之源,以服务为价值之巅。在技术上精益求精,坚持综合资源,不断研发新技术为导向。目前已同国内外众多行业龙头企业建立了长期稳定的合作关系。以满足客户不同需求为原则,长期以来深受众多客户信赖及支持
真空式等离子处理系统:
1.超大处理空间,提升处理产能,采用PLC+触摸屏控制系统,精确的控制设备运行。
2.可按照客户要求定制设备腔体容量和层数,满足客户的需要.
3.保养维修成本低,便于客户成本控制
4.高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持
用途:适用于印制线路板行业,半导体IC领域,硅胶,塑胶,聚合体领域,汽车电子行业,航空工业等,印制线路板行业,高频板表面活化,多层表面清洁,去钻污,软板,软硬补强前活化,半导体IC领域:COB COG COF ACF工艺,用于打线,焊接前的清洗,硅胶,塑胶,聚合体的表面粗化,刻蚀,活化
型号
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CRF-VPO-8L
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控制系统
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PLC+触摸屏
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电源
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380V/AC,50HZ,3KW
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射频电源功率
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500W/13.56MHZ
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容量
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80L
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层数
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8
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有效处理面积
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400L*300W
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气体通道
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两路工作气体可选:Ar,N2.H2.CF4.O2
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