等离子高速清洗模式
样品室中充满等离子体,样品被等离子体包围。等离子体中的原子与样品表面发生化学反应,同时等离子中带有能量粒子溅射样品表面,样品通过化学反应及物理溅射完成清洗。
该模式可以快速完全清洗,适用于快速光刻胶除尘、抛光、样品表明处理
等离子无损清洗模式
等离子表面清洗仪产生于样品室外,样品与等离子体无接触。样品表面仅与等离子体产生的原子发生化学反应,无溅射损伤。
该模式适用于碳网、聚合物、生物样品等敏感的样品。
脉冲清洗模式
等离子表面清洗仪低负荷循环脉冲模式可显著降低样品表面的等离子强度,避免样品表面的损坏