"随着纳米光学/光子学、纳米电子学/光电子学以及各种量子器件的迅速发展，基于新现象、新原理的纳米结构/器件的特征尺寸日趋减小，因而其精准制备与尺寸精确控制十分重要，是原理验证、功能实现与性能突破的基本前提和重要保障。构建纳米结构/器件精准制备与控制平台是实现精准制备各种纳米器件和结构尺寸精确控制的基础，是为新型纳米器件提供硬件解决方案的重要技术保障，同时有利于制备新工艺、新技术及新方法的发展。只有实现了新原理、极限结构与尺寸器件的高效制备才有可能揭示新原理纳米器件的新现象、新功能，新型纳米结构、极限尺寸与光子、电子相互作用的新机制及内在规律，进而深入理解纳米结构、形貌和尺寸对光子、电子、声子乃至极化子等的调控机制，最终发展具有新构型、极限结构/尺寸的器件工作新原理，突破现有理论框架构建新理论体系。反过来，又能利用新发展的理论体系指导器件的设计，进一步促进新构型、新原理、新功能器件的发展，形成研究的良性循环。 众所周知，在器件制备过程中，前级工艺形成的表面平整度/粗糙度对后续镀膜、电子束曝光、刻蚀等每一步关键工艺的横向尺寸、厚度控制均产生不可忽略的影响，尤其是对于具有极限尺寸的结构/器件，会导致器件性能严重衰减，甚至会引起器件的失效。而化学机械抛光技术是集成电路制造及纳米加工中获得全局平坦化的一种手段，可以实现亚纳米级精度、无划痕、无杂质污染的超平表面。国家纳米中心纳米加工实验室多年来一直于极限加工技术与方法、工艺的开发以及基于这些关键加工技术的低维纳米结构在光学调控和传感领域的研究,并在像素偏振芯片及其应用、介质材料光学超表面、以及高性能纳米传感器及其应用研究，并承担了面向典型污染物检测的纳米敏感材料与高性能传感器基础研究等多项国家重大研究任务，同时作为公共服务平台，为国内300余用户提供了各类纳米结构/器件的高质量技术支撑。随着芯片工艺节点逐步向1nm甚至更小推进、其他纳米结构/器件特征尺寸日趋减小以及国家战略需要，进一步推进极限加工工艺研究以及开展基于新材料、新结构、新原理的极限尺寸纳米结构/器件的前瞻性研究迫在眉睫。化学机械抛光设备实现亚纳米级精度平坦化表面，可有效避免由于表面平整度/粗糙度差带来的纳米结构尺寸与精度控制问题，结合已有设备，实现极限尺寸新型纳米结构/器件的高精度制备。"