PLUTO-MH 等离子表面处理系统(实验平台)

产品特点：

针对于对等离子体处理有严苛要求的场合中使用

等离子源才用频率为13.56MHz射频发生器，兼顾物理反应和化学反应

采用500W功率电源，自动阻抗匹配，高功率射频发生器可应对各种实验要求，保障高能量密度和高处理效率

高精度真空度控制，适应各种处理需求

316不锈钢腔体（或者6061铝合金），全不锈钢管路和连接件，适用各种气体（包含腐蚀性气体）

4.3寸工业级触摸屏，软件操作方便，多种参数设置和工艺组合处理模式

可增加多种配件，涂覆镀膜，电极温度控制，等离子体强度控制，等离子体化学反应等功能（如有特殊应用，请咨询销售人员）

根据用户需求，提供对应等离子体处理方案和定制特殊用途设备

产品参数:

    (如需其他功能,请咨询销售人员)

应用领域:

配置不同模块，拓展不同应用

加热电极模块-温度可控，可以加速等离子体处理速度和极大提高样品处理的均匀性

沉积镀膜模块，改变表面特性：

沉积CF材料，样品表面可以具有憎水的特性

沉积含苯材料，样品表面起到绝缘防水的特性

沉积含有羟基的材料，提高样品表面和其他材料的结合效果

感应耦合模块-感应耦合等离子体装置

气体混合装置

可以根据可以要求进行混气设计

气体纯化和反应

气体纯化和使用等离子体与相关材料进行化学反应