主要用途:RTP快速退火炉的主要特点有:可在真空/不同气氛/空气不同环境下,对样品进行快速热处理;控温精度高;适合高等院校或研究机构科研使用;主动式水循环冷却模式;立式设计;仪器采用触摸屏技术:操作方便,装取样片简单高效;价格合理,高性价比。
RTP快速退火炉的主要技术参数如下
加热元件:卤素电极;
电极数量:12支;
整机功率:7.2KW;
升温速率:200℃/Second;
降温速率:30秒(1000℃ → 400℃);
温度:1100℃;
温度精度:+/- 1℃;
样品尺寸:4英寸;
气氛环境:真空、气体(氮气、氩气、氧气)、空气;
真空系统:可根据实际需要选配无油机型泵或者分子泵
应用领域:
-快速热退火
- 快速热氧化
- 快速热氮化
- 硅化
- 扩散
- 化合物半导体退火
- 离子注入后退火
- 电极合金化
- 晶向化和坚化
- 合金熔点分析;
- 薄膜沉积; 等等…
欲了解更多关于RTP快速退火炉的详情可致电:1509335205