简单介绍：小型温控蒸发镀膜仪
本小型程序控温蒸发镀膜仪可对程序进行设定，并精 确控制温度在200ºC-1500ºC的范围内进行变化，在对样品进行蒸发镀膜的过程中，样品台可进行旋转，以获得更均匀的薄膜。本型号的小型程序控温蒸发镀膜仪应用范围广，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜，因此被广泛用于电极的制备和有机物发光LED的制备。仪器体积小巧，可有效节约实验室空间；操作简单，对不同材料的适应性强，因此被广泛应用于各大高校和科研院所的实验室当中。
详情介绍：
产品介绍小型温控蒸发镀膜仪
本蒸发镀膜仪在对样品进行蒸发镀膜的过程中，样品台可进行旋转，以获得更均匀的薄膜。本型号的小型程序控温蒸发镀膜仪应用范围广，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜，因此被广泛用于电极的制备和有机物发光LED的制备。仪器体积小巧，可有效节约实验室空间；操作简单，对不同材料的适应性强，因此被广泛应用于各大高校和科研院所的实验室当中。
产品特点
1.本设备采用石英腔体，易于清洁和样品的放入；
2.样品台可以旋转，镀膜效果能够更加均匀；
3.采用钨丝作为发热源，*高温度可达到1700℃，并配有专用的氧化铝舟装载样品（仅1600ºC以下使用，若蒸发温度大于1600ºC，样品应直接放在钨丝篮中）；
4.并且可将设备转换到手动调节状态，内部不安装热电偶，直接采用手动调节输出电流大小，发热源温度可达2000ºC，可达到对样品镀碳等实验要求。
5.可向真空腔体中通入惰性气体，对腔体进行清洗，也可通入反应气体，进行反应蒸发镀膜。
6.进气口配有针阀，用于调节进气流量。
