磁控溅射源/靶枪(1英寸/2英寸/3英寸)
技术参数:我们提供多种口径的圆形平面靶枪,尺寸1", 2" and 3". 以及矩形靶枪安装法兰口径:NW63CF,NW100CF真空腔体内长度范围:150-400mm真空腔体内端面直径:60-96靶材直径: 1", 2" and 3"靶材厚度:4-6mm冷却:水冷磁控溅射源/靶枪(1英寸/2英寸/3英寸)特点:超高真空(UHV)应用独有的放射性沉积模式在线Z轴驱动及倾斜水冷时不会存在水汽平衡靶和非平衡靶设计高强度磁体应用于磁性材料应用领域:PVD沉积金属涂层纳米结构薄膜多层镀层反应溅射射频溅射,直流溅射,脉冲直流溅射硬质涂层
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