离子溅射用高纯靶材

溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，较之较早点的蒸发镀膜方式，其很多方面的优势相当明显。作为一项已经发展的较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域。根据用户的不同需求，可按照要求定做各种规格的金属、合金、陶瓷等离子溅射用靶材。
常用靶材有：金靶Au、铂靶Pt、钛靶Ti、锌靶Zn、铬靶Cr、锡靶Sn、铝靶Al、铁Fe、硅
靶Si、铜靶Cu等。

产品编号         规格        材质           产地 
JZBAU025     Φ0.25       金Au          ZG 
JZBAU05       Φ0. 5        金Au          ZG 
JZBAG025    Φ0.25        银Ag          ZG 
JZBAG05      Φ0. 5         银Ag          ZG 
JZBPT025     Φ0.25        铂Pt          ZG 
JZBPT05       Φ0. 5         铂Pt           ZG