离子溅射仪 ETD-2000Ⅲ

性能特点如下：ETD-2000 Ⅲ 型离子溅射仪是依据二(DC)直流溅射原理设计而成的，*简单、可靠、经济的镀膜设备。他的特别之处是在个真空室内设计安装了三个靶。旋转样品台，可以依次在同样品上涂覆三种材料。适用于实验室的各种复合膜样品制备，及非导体材料实验电制作。
1. 配置有样品溅射室真空表和溅射电流表，用以指示、监控仪器状态； 
2. 溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体，获得*佳镀膜效果； 
3. 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象； 
4. 陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用； 
5. 根据电场中气体电离特性，采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。

技术参数：*配置参数如下：靶（上部电）：直径：45mm，厚度：0.12mm
真空样品室： 直径：160mm，高：120mm
溅射面积： Ф45mm，三区域
真空指示表： *高真空度：≤ 4X10-2 mbar
离子电流表： *大电流：50mA
定时器： *长时间：900S
微型真空气阀： 可连接φ3mm软管
可通入气体： 多种
*高电压： -1600（-3000）DCV
机械泵： 2L/S

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