用途:
LZ-Ⅱ离子溅射仪是种小型镀膜装置,可用作扫描电镜、电子探针等仪器进行试样制备,是开展教学科研实验的必备仪器。
镀膜原理与结构:
LZ-Ⅱ离子溅射仪镀膜基本原理是基于荷能正离子轰击靶电产生溅射现象,靶被溅射出来的中性原子沉淀于基台上样品表面成膜,形成导电层。
该离子溅射仪为二结构,以基台和样品架为正电与仪器外壳相连并接地,溅射靶电为负电(加负高压),它们被安装在玻璃罩的真空腔内,当腔内达到定真空度,在负高压的作用下发生辉光放电产生等离子体,其中正离子在电场加速下,获得足够能量轰击负电上的靶面,靶面被溅射原子沉淀于基台的样品表面形成导电膜,以供上述仪器分析。
技术参数:
1、型号:
1、真空腔:¢150×12 硼酸硅质玻璃
2、溅射靶尺寸:¢55×0.3
3、基台: ¢50 6-8个样品
4、间距调节范围20-40mm
5、溅射电压: -2000V-0 DC连续可调
溅射电流0-30 mA
6、定时器:0-99分数字显示
7、真空测量:1×105-1.0×10-1pa 数字显示,单片机控制,数字显示,具有真空保护锁设置。
8、控制系统:单片机控制,完成真空自动测量、显示、定时器功能以及自动完成镀膜程序。
9、真空泵:2L/S二旋片式直联机械泵,限真空度6×10-1pa
10、充气阀:金属微调针型阀 保护气体 99.9%纯度氩气(推荐)
11、外形尺寸:长354mm ×高216mm ×深340mm
12、电源:AC 220V 50HZ
特点:
1、人性化设计,整体性好;
2、单片机控制,操作方便简洁;
3、用户可根据实验需要自由设置溅射操作的工艺参数,使用灵活、方便;
4、仪器有真空锁保护设置,使仪器可靠性安全性好;
5、本产品已获得家专利,专利号:201220093483.0
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