离子溅射镀膜仪（通用仪器）简介：
什么是离子溅射镀膜？
在阳极与阴极之间使用合适的气体（常用的是氩气）和电压，当出现辉光放电时，阴极材料在气体离子的轰击下将侵蚀目标材料，这个过程就叫离子溅射。其结果是溅射出来的原子（阴极材料）将在样本（通常样本固定于阳极上）表面形成一层薄膜，均匀分布在样本的表面。
阴极材料通常使用金，习惯称之为金靶。
EMS550离子溅射镀膜仪（通用仪器）
EMS 550具有旋转样品台，可倾斜，适合各种样品。参数可预设，全自动控制保证获得准确的镀层厚度。 低电压溅射、冷溅射、超细颗粒等功能的使用，大大提高了工作效率。腔室直径为165 mm（6英寸），非常方便装载及移走样品。 仪器装有60mm直径、0.1mm厚的金靶（可选）。可选靶材包括金/钯，铂/钯和铂。 各种功能都集中设计在仪表板上，使用方便，满足不同学科的用户使用要求。 溅射参数可预设，包括气体放气针阀（此阀为电磁阀），一旦设置，就不需要再调节。溅射头互锁，系统可选配EMS250镀碳附件。
本仪器为全自动操作，可控制独立的真空泵。
性能特征
1、复合样本固定器 2、旋转且可倾斜样品台 3、全自动控制 4、低耗冷却系统，无需冷却样本及样品台 5、低压溅射 6、高质量镀层厚度（2nm 金膜）. 7、可重复性能 8、均匀沉积厚度（20nm或20埃） 9、微电子控制 10、聚碳酸脂安全壳体 |
性能参数：
1.仪器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H
2.工作腔室：硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H
3.安全钟罩：聚碳酸酯
4.重量：18公斤
5.靶：60 mm 直径 x 0.1mm 厚（金靶为标准靶面）
6.样品台直径为60 mm，靶面距在25mm－45mm之间可调
7.真空范围：ATM-1x10-2 mbar
8.沉积电流范围：0-50mA
9.沉积速率：0-25nm/分
10.溅射时间：0-4 分钟
11.预设置针阀：控制氩
12.电源：230 伏 50Hz （10 amp max. including Pump） 定购说明： 货号 | 产品名称 | 规格 | 91000 | EMS 550 Sputter Coater complete with Target EMS550离子溅射镀膜机 | 台 | 91000-MA | EMS 500 Manual Sputter Coater EMS500离子溅射镀膜机 | 台 | 91005 | Rotary Vacuum Pump Targets 60mm (Dia.) x 0.1mm (Thick) fitted inclusive as standard | 个 |
注：EMS500为EMS550的的手动型号（无旋转样品台），其它参数均同。 |
