ATC 旗舰系列磁控溅射镀膜系统

AJA国际公司的ATC Flagship 系列溅射系统，用途广泛，可以通过不同的配置来实现不同的需求。所有产品基于AJA独有的A300-XP (UHV)超高真空或Stiletto 系列 (HV)高真空磁控溅射源，这些溅射源可以原位偏转，因而可以实现精确的，可重复的共聚焦溅射沉积，直流溅射沉积，以及离轴溅射沉积。大型系统需要配备重型液压起重机来打开腔体上盖——上盖摇臂到起重机行程的两侧。中型或小型系统通过一个带气震装置的铰链来打开腔体。

以下系统腔室尺寸可供选择：

• ATC 1800  (18"  Ø) 

• ATC 2200 (22" Ø)

• ATC 2600 (26" Ø)

基片架尺寸范围，直径1" -10" 不等，可加热至1000°C和/或可从室温冷却至液氮温度。磁控溅射源尺寸从1" -12"直径不等，同时有矩形，三角形溅射源供选择。

AJA公司的系统可以集成多种沉积方式，如电子束蒸发，热蒸发，克努森蒸发池（分子束外延系统），脉冲激光沉积，离子束辅助沉积，对靶磁控溅射，光罩接触系统，手套箱，自动批量装载系统，RHEED, 俄歇分析系统，以及残余气体分析系统等。

可根据应用需求配置基于Labview的电脑控制和涡轮分子泵或低温泵。所有ATC系统之间是可连接的或者是和ATC Orion系统的多腔（例如，金属氧化物）或多技术（例如，溅射蒸发PLD研磨）装置连接。

AJA致力于研发生产薄膜沉积系统，包括磁控溅射系统，电子束蒸发系统，热蒸发系统和离子束刻蚀系统。1989年William Hale在美国马萨诸塞州创立了AJA这个品Pai，开始是以物理气相沉积产品供应商问世。随着越来越多的系统和磁控溅射源畅销世界，AJA国际公司不断突破自己，发现更多创新设计解决方案。其中一些方案一直被模仿，但从未被超越。AJA始终保持着薄膜技术领域的前沿地位。

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